73_76.pdf
(
205 KB
)
Pobierz
Nowości na rynku pamięci - układy FRAM
P O D Z E S P O £ Y
Nowoæ na rynku pamiêci
- uk³ady FRAM
Nowe, oryginalne,
technologie pojawiaj¹ siê na
wspó³czesnym rynku
elektroniki w coraz d³u¿szych
odstêpach czasu. Stosunkowo
najmniej dzieje siê wród
pamiêci RAM i ROM -
powiêkszanie ich pojemnoci,
skracanie czasu dostêpu
i obni¿anie kosztów struktur
nie wi¹¿e siê
z wprowadzeniem w ¿ycie
¿adnej istotnie nowej idei -
wiêkszoæ osi¹gniêæ jest
wynikiem wytê¿onej pracy
laboratoriów udoskonalaj¹cych
technologiê produkcji.
Pewien prze³om,
oczekiwany od blisko 50 lat,
jednak nast¹pi³ - szczegó³y
w artykule.
Nowoczesne technologie pó³-
przewodnikowe pozwoli³y na
szybki rozwój ró¿nego typu pa-
miêci. Stopniowo doskonalono
technologiê ich produkcji, du¿y
nacisk by³ k³adziony na ograni-
czenie rozmiarów pojedynczych
komórek, dziêki czemu mo¿liwym
siê sta³o wprowadzenie do seryj-
nej produkcji pamiêci o pojem-
nociach rzêdu dziesi¹tek i setek
milionów bitów, a tak¿e wielu
typów pamiêci umo¿liwiaj¹cych
przechowywanie zapisanych in-
formacji bez zasilania.
Praktycznie wszystkie stosowa-
ne dotychczas uk³ady pamiêciowe
wykorzystywa³y w swym dzia³a-
niu dawno opracowane techniki
zapamiêtywania informacji, ogra-
niczano siê g³ównie do poprawia-
nia technologii produkcji struktur.
Od pewnego czasu coraz sze-
rzej siê mówi o zupe³nie nowym
rodzaju pamiêci, w których infor-
macja zapamiêtywana jest w kon-
densatorach ferroelektrycznych -
st¹d pochodzi nazwa ca³ej rodzi-
ny uk³adów -
Ferroelectric RAM
.
O tym, jakie zjawiska fizyczne
wykorzystano w dzia³aniu pamiê-
ci FRAM, o ich zaletach, wadach,
mo¿liwociach i szansach na ryn-
ku elektroniki piszemy w tym ar-
tykule.
dzy nimi o pojemnoci kondensa-
tora decyduje sta³a jego dielekt-
ryka. Odejcie od tlenku krzemu
jest wynikiem d¹¿enia do ograni-
czania rozmiarów kondensatorów,
co pozwala zwiêkszyæ gêstoæ upa-
kowania struktur pó³przewodniko-
wych.
Wszystkie dielektryki stosowa-
ne w kondensatorach s¹ z natury
rzeczy niedoskona³e - zawsze pew-
na iloæ ³adunku wyp³ywa z kon-
densatora na skutek defektów die-
lektryka. Oznacza to w praktyce,
¿e zachowanie zawartoci pamiêci
DRAM wymaga odwie¿ania jej
zawartoci. Pamiêæ DRAM jest
odwie¿ana po podaniu odpo-
wiednich sygna³ów z kontrolera
DRAM. Pamiêci DRAM z autood-
wie¿aniem dokonuj¹ tego proce-
su, gdy kontroler zostaje wy³¹czo-
ny np. ze wzglêdu na potrzebê
oszczêdzania energii.
Kolejn¹, bardzo istotn¹ w³aci-
woci¹ pamiêci DRAM jest nisz-
cz¹cy charakter odczytu. Uzyska-
nie dostêpu do danego bitu ozna-
cza roz³adowanie odpowiadaj¹ce-
go mu kondensatora, który nastêp-
nie - by zachowaæ informacjê -
musi zostaæ powtórnie na³adowa-
ny. Czas potrzebny do przeprowa-
dzenia tej operacji oraz czas do
na³adowania tzw. wewnêtrznych
wêz³ów pamiêci DRAM okrelaj¹,
jak czêsto mo¿na uzyskaæ dostêp
do danego miejsca pamiêci.
W jakim stopniu podane wy¿ej
informacje dotycz¹ równie¿ pa-
miêci FRAM? Jak wynika z
rys.2
i
rys.3
, komórki FRAM z jednym
jak i z dwoma tranzystorami wy-
gl¹daj¹ podobnie do komórek
DRAM. Podstawy technologii
FRAM powsta³y w latach 50., kie-
Jak dzia³a FRAM?
Podstawy dzia³ania pamiêci
FRAM s¹ ³atwe do zrozumienia,
a rozwa¿ania dobrze jest zacz¹æ
od krótkiego omówienia funkcjo-
nowania pamiêci DRAM. Na
rys.1
przedstawiono schemat funkcjo-
nalny komórki DRAM. Zapisanie
logicznej 1 do komórki DRAM
wymaga na³adowania kondensato-
ra pod odpowiednim adresem pa-
miêci.
W przesz³oci producenci u¿y-
wali jako dielektryka tego konden-
satora zwyk³ego tlenku krzemu.
Teraz znacznie czêciej producen-
ci DRAM stosuj¹ bardziej wymy-
lne zwi¹zki krzemu. Wynika to
z faktu, ¿e przy okrelonych roz-
miarach ok³adek i odleg³oci miê-
Rys. 1.
Elektronika Praktyczna 9/97
73
P O D Z E S P O £ Y
Rys. 2.
bramki wybieraj¹cej i specjalnie
opracowane kondensatory odizo-
lowane od ka¿dego z tranzysto-
rów, rozwi¹zuj¹ problem zak³ó-
ceñ. Nowe materia³y umo¿liwiaj¹
dokonanie cykli zapisu rzêdu 10
12
,
z perspektyw¹ 10
15
w ci¹gu naj-
bli¿szych kilku lat. We wspó³-
czesnych kondensatorach ferro-
elektrycznych jako dielektryka
u¿ywa siê materia³u nazwanego
PZT (cyrkonian-tytanian o³owiu).
Inne materia³y, posiadaj¹ce wy-
¿sze sta³e dielektryczne, krótsze
czasy dostêpu, mniejsze pr¹dy
up³ywu i wymagaj¹ce ni¿szych na-
piêæ zapisu, s¹ w trakcie opraco-
wywania, jak np. Y-1 firmy Sy-
metrix Corp.
Podczas operacji odczytu z pa-
miêci FRAM uk³ady dekoderów
podaj¹ na kondensator pole elek-
tryczne, natomiast wzmacniacze
odczytu detekuj¹ przep³ywaj¹cy
pr¹d (wiêkszy w przypadku zmia-
ny polaryzacji), a informacja w po-
staci logicznego 0 lub 1 prze-
kazywana jest na wyjcia uk³adu.
Tak wiêc podobnie jak w przy-
padku DRAM odczyty FRAM maj¹
charakter niszcz¹cy. Odpowiednie
uk³ady wewnêtrzne pod koniec
operacji odczytu dokonuj¹ ponow-
nego zapisu danych.
Ma to powa¿ne skutki dwoja-
kiego rodzaju: po pierwsze, pod-
czas szacowania szybkoci pracy
pamiêci nale¿y wzi¹æ pod uwagê
czasy ponownego zapisu i wstêp-
nego ³adowania. Po drugie, zaró-
wno operacja odczytu jak i zapisu
obci¹¿a pamiêci FRAM w sensie
iloci wykonywalnych cykli.
Aby podnieæ niezawodnoæ
we wspó³czesnych pamiêciach
FRAM stosuje siê architekturê 2T-
2C (dwa tranzystory - dwa kon-
densatory - rys.2). W architekturze
tej odczyt jest ró¿nicowy - doko-
nuje siê pomiaru ró¿nicy pr¹dów
p³yn¹cych po podaniu pola elek-
trycznego przez dwa kondensatory
z dielektrykiem ferroelektrycznym.
Podstawow¹ zalet¹ takiego odczy-
tu jest niezawodnoæ, uzyskiwana
dziêki eliminacji wszelkich skut-
ków degradacji obydwu konden-
satorów.
Rozwi¹zanie takie zapewnia
d³u¿szy czas przechowywania in-
formacji oraz wiêksz¹ liczbê cykli.
Cen¹ jest bardziej kosztowna ar-
chitektura - dwa tranzystory, dwa
kondensatory, dwie linie danych
i bardziej z³o¿one wzmacniacze
odczytu. Dalej - odczyt ró¿nicowy
trwa d³u¿ej ni¿ odczyt zwyk³y, co
zwiêksza czas dostêpu. Z tych,
a tak¿e z innych powodów produ-
cenci pamiêci FRAM d¹¿¹ do jak
najszybszego wprowadzenia archi-
tektury zbli¿onej do stosowanej
w pamiêci DRAM - 1T-1C (rys.3),
co umo¿liwi tak¿e uzyskanie wy-
¿szych gêstoci upakowania bi-
tów.
dy to odkryto, ¿e pewne materia-
³y, nosz¹ce nazwê perowskitów,
po poddaniu dzia³aniu pola elek-
trycznego uzyskuj¹ polaryzacjê, za-
le¿n¹ od zwrotu wektora pola. Co
wa¿ne, owa polaryzacja pozostaje
po usuniêciu pola i ani zewnêt-
rzne pola magnetyczne, ani elek-
tryczne nie maj¹ wp³ywu na stan
komórki. Przy³o¿one wewnêtrzne
pole elektryczne powoduje usta-
wienie atomu materia³u w jednym
z dwóch stabilnych po³o¿eñ,
w którym pozostaje on do mo-
mentu przy³o¿enia pola o prze-
ciwnym zwrocie (
rys.4
).
Kilka niekorzystnych zjawisk
ogranicza³o mo¿liwoci technolo-
gii we wczeniejszych etapach jej
rozwoju. Po pierwsze, warstwy
tlenkowe uzyskiwane w latach 50.
by³y bardzo grube, co stwarza³o
koniecznoæ stosowania napiêæ po-
laryzuj¹cych o wartociach prze-
kraczaj¹cych 100V. Liczba wyko-
nywalnych operacji zapisu by³a
ograniczona, a operacje dostêpu
do komórki zak³óca³y stany s¹-
siednich komórek. Te i inne zja-
wiska sprawi³y, ¿ kondensatory
ferroelektryczne pozostawa³y
obiektem akademickich badañ
jeszcze przez wiele dziesiêcioleci.
W roku 1990 okaza³o siê, ¿e
wiêkszoæ z wymienionych zja-
wisk zosta³a wyeliminowana b¹d
w znacznym stopniu ograniczona.
Gruboci warstw tlenkowych s¹
rzêdu dziesi¹tek nanometrów, co
pozwala dokonywaæ zapisu przy
pomocy napiêæ o wartociach rzê-
du 2,7V, z perspektyw¹ dalszego
obni¿enia. Stosowane rozwi¹zanie
Perspektywy pamiêci
FRAM
Powstaje pytanie, czy FRAM
pozostanie pamiêci¹ o ograniczo-
nych rozmiarach produkcji, czy
te¿ stanie siê kolejnym, masowo
produkowanym standardowym ty-
pem pamiêci.
Firma Ramtron powróci³a do
prób z technologi¹ FRAM w 1984
roku. W roku 1988 zaprezentowa-
³a pierwsz¹ pamiêæ FRAM o po-
jemnoci 256 bitów, która zosta³a
wykonana w technologii 4
Rys. 3.
Rys. 4.
74
Elektronika Praktyczna 9/97
m.
Pierwszy uk³ad FRAM posiada³
bardzo z³o¿on¹ strukturê komórki
- a¿ 6 tranzystorów i 2 kondensa-
m
P O D Z E S P O £ Y
tory - by³o to po prostu odzwier-
ciedlenie standardowej komórki
SRAM z podtrzymaniem. Archi-
tektura taka zajmowa³a du¿o miej-
sca, uniemo¿liwiaj¹c wysok¹ gês-
toæ upakowania, co bardzo wy-
ranie odbija³o siê na koszcie
produkcji.
W roku 1992 firma Ramtron
wprowadzi³a uk³ad FRAM nowej
generacji, oparty na prostszej
i mniejszej strukturze komórki, za-
wieraj¹cej tylko dwa tranzystory
i dwa kondensatory (jak na rys.
2). Pamiêæ ta mia³a pojemnoæ
4kB i by³a wykonana w technolo-
gii 1,5
Tabela 1. Porównanie technologii uk³adów pamiêciowych.
a
c
h
n
o
l
o
g
i
F
R
A
M
S
R
A
M
N
V
R
A
M
E
E
P
R
O
M
F
l
a
s
h
D
R
A
M
R
o
z
m
i
a
r
r
e
d
n
i
D
u
¿
y
D
u
¿
y
r
e
d
n
i
M
a
³
y
r
e
d
n
i
k
o
m
ó
r
k
i
N
i
e
u
l
o
t
n
o
æ
T
k
N
i
e
T
k
T
k
T
k
N
i
e
S
z
y
b
k
o
æ
1
5
0
.
.
2
0
0
n
s
2
5
.
.
1
0
0
n
s
2
5
.
.
4
5
n
s
1
0
m
s
5
m
s
.
.
1
0
5
0
.
.
1
0
0
n
s
z
a
p
i
s
u
S
z
y
b
k
o
æ
o
d
c
z
y
t
u
i
n
t
e
r
f
e
j
s
u
1
5
0
.
.
2
0
0
2
5
.
.
1
0
0
2
5
.
.
2
5
6
0
.
.
1
5
0
7
0
.
1
5
0
3
0
.
.
7
0
r
ó
w
n
o
l
e
g
³
e
-
g
o
(
n
s
)
M
a
k
s
y
-
1
0
5
1
0
6
m
a
l
n
a
i
l
o
æ
B
e
z
B
e
z
(
o
g
r
a
n
i
c
z
o
n
a
(
o
g
r
a
n
i
c
z
o
n
a
B
e
z
m. Najwiêkszym zastoso-
waniem, jakie ten uk³ad znalaz³,
by³y gry produkowane przez zna-
n¹ w naszym kraju firmê Sega.
Niestety, w swoich najnowszych
produktach firma Sega zastosowa-
³a nonik pamiêciowy w postaci
p³yty CD-ROM.
W chwili obecnej Ramtron pro-
ponuje najszersz¹ ofertê pamiêci
FRAM - od 4 do 256kb, wyposa-
¿onych w interfejsy I
2
C, szerego-
wo-równoleg³y (SPI) i równoleg³y.
Dostêpne wersje uk³adów mog¹
pracowaæ z napiêciami zasilania
z zakresu 4,5...5,5V oraz 2,7..3,6V,
zakresy temperatur pracy 0
o
C -
70
o
C (zwyk³y) i -40
o
C - 85
o
C
(rozszerzony).
Bie¿¹ce prace rozwojo-
we obejmuj¹ wprowadzenie
mniejszych komórek, zawieraj¹-
cych jeden tranzystor i jeden kon-
densator (jak na rys.3). Ramtron
przewiduje rozpoczêcie rozprowa-
dzania próbek tych pamiêci ju¿
pod koniec bie¿¹cego roku.
Ramtron jest prekursorem no-
woczesnych technologii FRAM,
ostatnio jednak firma ta zebra³a
znaczn¹ grupê licencjobiorców,
wród których znajduj¹ siê naj-
powa¿niejsi na rynku produ-
cenci pamiêci ulotnych
i nieulotnych. W roku
bie¿¹cym Ramtron
podpisa³ umowê licen-
cyjn¹ z firmami Sam-
sung i SGS-Thomson.
Firma posiada takie umowy
z firmami Fujitsu (od 1996 ro-
ku), Toshiba (od 1995 roku),
Rohm (od 1993 roku) i Hitachi
(od 1992 roku).
Firma Rohm która, jako jedna
z niewielu wród partnerów Ram-
tron ju¿ produkuje pamiêci FRAM,
dostarcza na rynek 16-kb pamiêæ
o
p
e
r
a
c
j
i
n
a
1
0
1
0
.
.
1
0
1
2
o
g
r
a
n
i
c
z
e
ñ
o
g
r
a
n
i
c
z
e
ñ
y
l
k
o
i
l
o
æ
t
y
l
k
o
i
l
o
æ
o
g
r
a
n
i
c
z
e
ñ
k
o
m
ó
r
c
e
z
a
p
i
s
ó
w
)
z
a
p
i
s
ó
w
)
p
a
m
i
ê
c
i
r
e
d
n
i
M
a
³
y
M
a
³
y
r
e
d
n
i
r
e
d
n
i
r
e
d
n
i
W
y
s
o
k
i
p
o
b
ó
r
m
o
c
y
szeregow¹, opracowuje za pamiê-
ci szeregowe o pojemnociach
4 i 64kb. Rohm ma dzia³aæ przede
wszystkim w zakresie uk³adów
FRAM o niskiej pojemnoci oraz
integrowaæ pamiêci FRAM z inny-
mi typami pamiêci oraz uk³adami
logicznymi.
Firma Hitachi rozprowadza
próbki swej pierwszej pamiêci
FRAM z wejciem równo-
leg³ym o po-
A. Prezento-
wana pamiêæ zapewnia utrzymanie
zapisanej informacji przez okres
10 lat, wykonanie 10
12
cykli.
Hitachi w ci¹gu dwóch najbli¿-
szych lat wprowadzi na rynek
nowe uk³ady o pojemnoci 1 lub
4Mb. Uk³ad wykonywany bêdzie
w wielowarstwowej technologii
nowej generacji 0,5
150ns przy odczycie oraz 235ns
podczas cyklu zapisu i odczytu.
Pobór pr¹du w stanie aktywnym
i w stanie standby wynosz¹ odpo-
wiednio 20mA i 15
m
m,
z komórk¹ 1 tran-
zystor -
m
jemnoci 256kb,
oznaczonej HM71V832. Jest to
uk³ad wykonany w zaawansowa-
nej technologii 0,8
m
1 kondensa-
tor, z kon-
densatorem
typu stac-
ked.
Pozostali
posiadacze licen-
cji - Fujitsu, Sam-
sung, SGS-Thom-
son i Toshiba, zna-
jduj¹ siê na ró¿-
nych etapach
przygotowywania
technologii i ar-
chitektury.
W padzierni-
ku Samsung
og³osi³ opracowanie 64-kb uk³adu
wykorzystuj¹cego komórkê 1T-1C,
kondensator typu stacked oraz
technologiê z podwójn¹ warstw¹
Elektronika Praktyczna 9/97
75
T
m
t
m, zasilany
napiêciem 3V. Czas dostêpu tego
uk³adu wynosi odpowiednio:
P O D Z E S P O £ Y
metalu. Kilku innych potentatów
prowadzi prace nad pamiêci¹
FRAM we w³asnym zakresie.
W 1996 roku, podczas konferen-
cji International Solid State Cir-
cuits Conference (ISSCC), firma
NEC przedstawi³a w³asny 1Mb
uk³ad FRAM, zasilany napiêciem
3,3V, o czasie dostêpu 60ns i cyk-
lu odczyt/zapis 100ns. Uk³ad ten,
wykonany w technologii 1
m
kiem i systemem RFID móg³ byæ
du¿y, a czas wymiany informacji
- krótki.
Jak dalece realistycznie wygl¹-
daj¹ cele stawiane sobie przez
producentów pamiêci FRAM?
Czêæ in¿ynierów wstrzymuje siê
z powa¿nym potraktowaniem pa-
miêci FRAM, co wynika z jej nie
najlepszych w rzeczywistoci pa-
rametrami w porównaniu z zapo-
wiedziami. Nawet jeli technolo-
gia ta poprawi sw¹ z³¹ reputacjê
i zainteresuje dostatecznie prze-
mys³, nadal trzeba bêdzie porów-
naæ jej podstawowe parametry
z parametrami innych technologii
(
tab. 1
).
Producenci d¹¿¹cy do ograni-
czenia kosztów i zwiêkszenia
stopnia upakowania zmierzaj¹ ku
jednemu - zintegrowaniu w spo-
sób op³acalny coraz wiêkszej
liczby bitów. Op³acalnoæ uza-
le¿niona jest od wielu czynni-
ków. Po pierwsze, od powierz-
chni krzemu przeznaczanej przez
projektantów na jeden bit prze-
chowywanej informacji. Najwcze-
niejsza komórka FRAM 6T-6C
by³a du¿a i z³o¿ona, dzisiejsza
komórka 2T-2C jest mniej wiêcej
dwukrotnie wiêksza od komórki
pamiêci DRAM czy EEPROM
i oko³o trzy razy wiêksza od
komórki pamiêci FLASH przy tej
samej skali litografii procesu.
Z drugiej strony, komórka FRAM
2T-2C jest mniejsza ni¿ cztero
i szeciotranzystorowe komórki
SRAM, a tym bardziej ni¿ ko-
mórki nieulotnej pamiêci RAM.
Dalszy rozwój technologii w kie-
runku architektury 1T-1C
i umieszczenie kondensatora nad
lub pod tranzystorem powinny
doprowadziæ do ograniczenia
rozmiaru komórki FRAM do
wielkoci porównywalnej z ko-
mórk¹ DRAM. I rzeczywicie -
firma Hitachi rozwa¿a wprowa-
dzenie do masowej produkcji
uk³adów z komórk¹ typu FRAM
jako jeden z wariantów przy op-
racowywaniu op³acalnej gigabi-
towej pamiêci DRAM. Sta³e die-
lektryczne kondensatorów FRAM,
bêd¹ce miar¹ zdolnoci konden-
satora do gromadzenia ³adunku,
s¹ wy¿sze ni¿ we wspó³czesnych
uk³adach opartych o tlenki krze-
mu, pozwalaj¹ wiêc na mniejsze
rozmiary kondensatorów, a wiêc
ni¿szy koszt.
Inny element istotny przy oce-
nie op³acalnoci pamiêci FRAM
stanowi¹ pozosta³e uk³ady wcho-
dz¹ce w sk³ad scalanej struktury,
jak po³¹czenia, dekodery, wzmac-
niacze odczytu, bufory wyjciowe
i pompy napiêcia. Zwolennicy
uk³adów FRAM wskazuj¹ tu na
pewn¹ zaletê tej technologii w po-
równaniu z pamiêciami EEPROM.
W przypadku pamiêci FRAM przy
operacji zapisu wykorzystywane
jest bezporednio napiêcie 3,3V,
natomiast technologia EEPROM
wymaga wewnêtrznych uk³adów
podnosz¹cych napiêcie. Poniewa¿
wysi³ki konstruktorów pamiêci
FRAM s¹ obecnie skupione bar-
dziej na uzyskaniu niskiego po-
boru mocy ni¿ szybkiego dostêpu,
niepotrzebne staj¹ siê szybkie,
zajmuj¹ce du¿o miejsca bufory
wyjciowe. Przewidywane prze-
jcie do komórki 1T-1C oznacza
tak¿e dalsz¹ minimalizacjê roz-
miarów wzmacniaczy odczytu oraz
po³¹czeñ miêdzy liniami bitowy-
mi.
A. Parametry czasowe
tego uk³adu s¹ bliskie paramet-
rów wspó³czesnych pamiêci
DRAM.
Zarówno Matsushita jak i Mic-
ron Technology wyst¹pi³y na
ISSCC w 1994. Micron Technolo-
gy przedstawi³a przegl¹d techno-
logii i zastosowañ FRAM, jednak
bez ujawniania stanu oraz planu
prac rozwojowych. Firmy Matsus-
hita i Symetrix przedstawi³y pa-
miêæ FRAM o pojemnoci 256kb,
czasie dostêpu 100ns i zasilaniu
3,3V. Uk³ad wykorzystuje komór-
kê 1T-1C, z pojedyncz¹ warstw¹
metalu, technologiê 1,2
m
Technologia FRAM eliminuje
tak¿e potrzebê stosowania odrêb-
nego uk³adu sterowania zasila-
niem oraz baterii niezbêdnych
w przypadku SRAM z podtrzyma-
niem bateryjnym.
Skala technologii procesu i jej
zgodnoæ z technologiami innych
uk³adów tak¿e maj¹ wp³yw na
koszty. Najlepsze wspó³czesne
mikroprocesory, pamiêci DRAM
i SRAM wykorzystuj¹ technologiê
0,3
m oraz
dielektryk Y-1, który nie jest
materia³em PZT.
Dokumentacje Ramtron i Hita-
chi pozwalaj¹ zorientowaæ siê, ¿e
celem obu firm jest doprowadze-
nie do wykorzystywania ich tech-
nologii FRAM w nieulotnych pa-
miêciach RAM, pamiêciach
SRAM z podtrzymaniem bateryj-
nym oraz EEPROM, a nastêpnie
rozszerzenie zastosowañ na pa-
miêci SRAM o niskim poborze
mocy, niskiej pojemnoci pamiêci
FLASH oraz DRAM. Inne firmy
oferuj¹ce pamiêci FRAM maj¹
zbli¿one zamierzenia. W chwili
obecnej wszystkie te firmy trak-
tuj¹ FRAM jako doskona³¹ tech-
nologiê pamiêci do takich no-
wych zastosowañ, jak inteligen-
tne karty i karty identyfikacyjne
RF (RFID). W tym ostatnim zasto-
sowaniu, w którym czêsto wystê-
puj¹ operacje zapisu i odczytu,
ca³a energia zasilania pobierana
jest z pola elektromagnetycznego
emitowanego przez nadajnik.
W przypadku RFID operacje za-
pisu i odczytu powinny wymagaæ
niewiele energii i trwaæ krótko,
tak by dystans miêdzy nadajni-
m
m, podczas gdy pa-
miêæ FRAM wykonywana jest
w starszej technologii 0,8
m
m - 0,4
m
m -
m. Takie rozwi¹zanie pozwala
producentom pamiêci FRAM wy-
korzystaæ ju¿ zamortyzowane
sprzêt i technologie. Niestety, star-
sza technologia oznacza ni¿sz¹
gêstoæ upakowania bitów, która
przy masowej produkcji ma wiêk-
sze znaczenie ni¿ koszty urz¹-
dzeñ. Nie bez znaczenia jest fakt,
¿e proces wytwarzania pamiêci
FRAM jest w 75% zgodny z pro-
cesem produkcji DRAM, a ró¿nice
wystêpuj¹ tylko w kilku ostatnich
etapach, w tym w etapie nak³ada-
nia ferroelektryka.
Tomasz Jaworski
m
W artykule wykorzystano ma-
teria³y udostêpnione przez firmy
Ramtron, SGS-Thomson oraz Hi-
tachi.
76
Elektronika Praktyczna 9/97
m, na
dielektryku z tlenków bizmutu,
tantalu i strontu, posiada³ komór-
kê 1T-1C, a jego pobór pr¹du
w stanie aktywnym i w stanie
standby wynosi³ odpowiednio
50mA i 10
m
1
Plik z chomika:
abooki
Inne pliki z tego folderu:
1.pdf
(428 KB)
15_20.pdf
(557 KB)
23_25.pdf
(164 KB)
27.pdf
(90 KB)
30_36.pdf
(384 KB)
Inne foldery tego chomika:
01.97
02.97
03.97
04.97
05.97
Zgłoś jeśli
naruszono regulamin